ASML isporučuje drugi High-NA EUV litografski sustav neimenovanom klijentu
ASML je u srijedu 17. travnja objavio da je počeo isporučivati svoj drugi High-NA EUV litografski sustav, nakon Intela, drugom kupcu
U objavi se ističe da među vodećim proizvođačima čipova postoji veliko zanimanje za novu generaciju ekstremno ultraljubičaste (EUV) litografije. Nije navedeno tko je ta druga tvrtka koja je dobila EUV alat s projekcijskom optikom od 0,55 numeričke aperture.
"Što se tiče High-NA, ili 0,55 NA EUV, isporučili smo naš prvi sustav kupcu i taj sustav je još u fazi instalacije", rekao je glavni poslovni direktor ASML-a Christophe Fouquet na konferenciji o prihodima tvrtke te dodao: "Počeli smo isporučivati drugi sustav ovog mjeseca i njegova instalacija uskoro počinje."
ASML je počeo isporučivati svoj prvi High-NA EUV lito alat Twinscan EXE:5000 Intelu krajem 2023. godine. Intel će koristiti sustav da nauči koristiti takve strojeve i ubacit će sustav u masovnu proizvodnju sa svojim Intelom 14A proces proizvodnje za nekoliko godina. Počevši raditi na svojim procesnim tehnologijama temeljenim na High-NA EUV dovoljno rano, Intel će moći razviti industrijske standarde za litografiju sljedeće generacije, koja je spremna postati konkurentska prednost u nadolazećim godinama.
