ASML-ov novi laboratorij otvara pristup High NA EUV litografskoj opremi
ASML, jedini proizvođač strojeva za izradu čipova za najnaprednije poluvodiče, otvorio je ispitni laboratorij za svoju High NA EUV litografsku opremu, svoj najsuvremeniji alat do sada
Laboratorij, smješten u Veldhovenu u Nizozemskoj, zajednički je pothvat ASML-a i belgijske tvrtke za istraživanje čipova imec. Omogućit će vodećim proizvođačima čipova i drugim dobavljačima materijala i opreme rani pristup prototipnom skeneru High NA EUV.
High NA strojevi predstavljaju najnoviji napredak u sustavima ekstremne ultraljubičaste (EUV) litografije, koji koriste svjetlost za crtanje uzoraka čipova na silicijskoj pločici.
Prema ASML-u, ovi strojevi mogu proizvoditi brže, manje i energetski učinkovitije čipove.
Do sada je samo Intel osigurao pristup High NA strojevima. Ali sada će laboratorij omogućiti klijentima i partnerima ASML-a pristup tehnologiji prije nego što sustav bude dostupan u njihovim tvornicama.
Nizozemski gigant čipova očekuje da će laboratorij podržati smanjenje rizika tehnologije prije nego što alati počnu raditi za masovnu proizvodnju 2025.-2026. godine.
Za imec, laboratorij će raditi kao virtualno proširenje njegove 300 mm čiste sobe za komplementarnu tehnologiju poluvodiča metalnog oksida (CMOS) u Leuvenu, na kojoj također surađuje s ASML-om.
U međuvremenu imec, koji je ključni proizvođaču europskom sektoru čipova, osigurao je 2,5 milijardi eura za smještaj zasebne pilot linije čipova ispod 2 nanometara, sa slučajevima uporabe koji se protežu od zdravstvenih aplikacija do automobilskih aplikacija.
Sada, zajednički laboratorij s ASML-om ima za cilj pružiti pristup testiranju trenutno najnaprednije tehnologije poluvodiča, zadržavajući stručnost istraživanja i razvoja u Europi.
