ASML uvođenjem visoke neuronske mreže ojačava vodstvo u AI čipovima?
ASML očekuje da će njegovi prvi čipovi izrađeni s High-NA strojevima uskoro biti spremni. To je jedna od strateški najvažnijih tvrtki u globalnom poluvodičkom ekosustavu
Tvrtka ima čvrstu dominaciju u sustavima ekstremne ultraljubičaste (EUV) litografije.
Strojevi s visokom numeričkom aperturom ili NA su litografski sustavi sljedeće generacije dizajnirani za ispis nanometarskih uzoraka za napredne AI, logičke i memorijske čipove. Povećanjem numeričke aperture s 0,33 u prethodnim EUV generacijama na 0,55, High-NA tehnologija omogućuje veću gustoću tranzistora i poboljšane performanse čipa. Taj napredak dodatno učvršćuje ASML-ovu dominaciju u vrhunskoj litografiji u vrijeme kada potražnja za računalstvom potaknutim umjetnom inteligencijom brzo raste. Intel se već pojavio kao rani korisnik tehnologije, dok je SK Hynix također signalizirao planove za uključivanje High-NA sustava u svoj plan proizvodnje.
Važno je napomenuti da bi svaki High-NA stroj koštao oko 400 milijuna dolara. Tehnologija sada napreduje od faze validacije istraživanja i razvoja do ranog raspoređivanja u proizvodnju. Prema riječima izvršnog direktora ASML-a, Christophea Fouqueta, „Stroj će smanjiti troškove oblikovanja ili stvaranja sklopova najnaprednijih čipova za logičke i memorijske aplikacije.“
Ako se čipovi s visokom numeričkom vrijednošću (High-NA) pokažu uspješnima i ako se njihova primjena s vremenom proširi, svaka isporuka High-NA povećat će prihod po sustavu, stvoriti mogućnosti održavanja i servisiranja te ojačati prepreke za prelazak na druge sustave za ASML. S rastućom potražnjom za EUV-om, ASML Holdings prijeći će s dominantnog dobavljača litografije na nezamjenjivog dobavljača infrastrukture za eru AI poluvodiča.
